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晶片腐蝕清洗設備特點

點擊次數(shù):1856  更新時間:2021-09-17
  晶體是一種石英結(jié)晶體礦物,它的主要化學成份是二氧化硅SiO2,一般分為兩種,即天然晶體和人工晶體。天然晶體資源比較稀缺,而人工晶體,資源較為豐富,因此生產(chǎn)晶振基本上多選自人工晶體。
  晶片愈厚對晶體的起振性能、電阻的影響愈大,清除晶片因研磨造成的表面松散層的深腐蝕方法較為有效。
  晶片光潔度的提高對鍍膜的附著率造成影響,如果附著率無保證,會造成頻率的不穩(wěn)定。為了保證晶片的附著率,采用先鍍一層附著率好的鉻,然后再鍍銀或者金等金屬。
  我們的晶片腐蝕清洗機是根據(jù)石英晶片生產(chǎn)企業(yè)設計的一款高性能晶片腐蝕清洗設備,雙槽式設計,外殼采用電器控制元件。
  主要特點:
  1.帶有上下抖動功能,能有效充分的腐蝕晶片。
  2.腐蝕槽可采用石英缸,也可采用進口PP槽。
  3.自動補液,自動放液,減少人為操作。
  4.水沖洗槽采用循環(huán)水,自動溢流,節(jié)約水源。
  5.可采全自動方式,也可采用手動控制方式。
  6.晶片腐蝕清洗機
  超聲波清洗原理:
  由超聲波發(fā)生器所發(fā)出的高頻超聲振蕩信號,通過換能器轉(zhuǎn)換成高頻機振蕩而傳播到介質(zhì)—清洗溶劑中,利用超聲波在清洗溶劑中的“空化作用”,使液體流動而產(chǎn)生數(shù)以萬計的小氣泡,這些氣泡在超聲波縱向傳播成的負壓區(qū)形成、生長,而在正壓區(qū)迅速破裂,就是在這種被稱為“空化”效應的過程中氣泡破裂產(chǎn)生超過1000個大氣壓的瞬間高壓,連續(xù)不斷產(chǎn)生的瞬間高壓產(chǎn)生一串小“爆炸”不斷地沖擊被清洗物體的表面,孔隙、縫道,使物體表面及縫隙中的污垢迅速剝落,從而達到被清洗物件凈化的目的。因此利用超聲波清洗質(zhì)量好、速度快。對一般常規(guī)清洗方法,可達到清潔度要求,尤其對幾何形狀比較復雜,帶有各種小孔,彎孔和盲孔等被清洗物件,采用超聲波清洗的潔凈效果更為明顯。
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